Halbleiterbauelemente Leistungsbewertung von Halbleiterbauelementen und -anlagen - Teil 1: Verfahren zur Bewertung der Durchlässigkeit von EUV-Pellikeln
Kurzreferat
Dieser Teil der IEC 63567-1 ED1 schlägt ein Verfahren zur Messung der Durchlässigkeit von extrem ultravioletten (EUV)-Pellicle, das für die Extrem-Ultraviolett-Lithographie (EUVL) verwendet wird, und enthält Richtlinien für die Bedingungen des Transmissionsmessgeräts für EUV mit einer kurzen Wellenlänge und Methoden zur Berechnung der EUV-Durchlässigkeit. Der Anwendungsbereich dieses Dokuments gilt für alle Arten von Membranen, die auf der Vorderseite einer Reflexionsmaske (oder des reflektierenden Retikels) angebracht sind, die bei EUVL verwendet werden, um die Reflexionsmaske physisch vor Verunreinigungspartikeln zu schützen, die während der EUV-Belichtung im Inneren der Kammer entstehen.
Beginn
2024-07-12
Geplante Dokumentnummer
DIN EN IEC 63567-1
Projektnummer
02232442
