Projekt

Atomic Layer Deposition-- Chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors

Beginn

2024-05-24

Geplante Dokumentnummer

ISO/CD 19383

Zuständiges nationales Arbeitsgremium

NA 062-01-61 AA - Mess- und Prüfverfahren für Schichten und Schichtsysteme  

Zuständiges internationales Arbeitsgremium

ISO/TC 107/WG 5 - Atomlagenabscheidung  

Ihr Kontakt

Clemens Judersleben

Am DIN-Platz, Burggrafenstr. 6
10787 Berlin

Tel.: +49 30 2601-2210
Fax: +49 30 2601-42210

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