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Norm-Entwurf [NEU]

24/30497109 DC
BS EN IEC 63068-5 Semiconductor devices. Non-destructive recognition criteria of defects in silicon carbide homoepitaxial wafer for power devices. Part 5. Test method for defects using X-ray topography

Titel (englisch)

BS EN IEC 63068-5 Semiconductor devices. Non-destructive recognition criteria of defects in silicon carbide homoepitaxial wafer for power devices. Part 5. Test method for defects using X-ray topography

Ausgabe 2024-07-12
Originalsprache Englisch
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