DIN 50451-4
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 4: Bestimmung von 34 Elementen in hochreinem Wasser durch Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)
Testing of materials for semiconductor technology - Determination of trace elements in liquids - Part 4: Determination of 34 elements in ultra pure water by mass spectrometry with inductively coupled plasma (ICP-MS)
Einführungsbeitrag
Dieses Dokument legt ein Prüfverfahren zur Bestimmung der Massenanteile von 34 Elementen im extremen Spurenbereich in Reinstwasser fest, wobei als Bestimmungsverfahren die Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS) eingesetzt wird. Das Verfahren gilt für Elementspuren-Massenanteile von 10 ng/kg bis 1 000 ng/kg. Dieses Dokument wurde vom Arbeitsausschuss NA 062-02-21 AA "Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie" im DIN-Normenausschuss Materialprüfung (NMP) erarbeitet.
Änderungsvermerk
Gegenüber DIN 50451-4:2007-02 wurden folgende Änderungen vorgenommen: a) Abgrenzung von Direktmessung und Anreichungsverfahren insbesondere bei der Kurzbeschreibung des Messverfahrens (Abschnitt 5) und der Auswertung (Abschnitt 11); b) Präzisierung des Reinigungsverfahren in 7.2; c) Präzisierung des Messprozesses hinsichtlich Teilmenge und Blindwertkorrektur, siehe Abschnitt 10; d) Aktualisierung der Anforderung des Prüfberichts, entsprechend den vorgenommenen Änderungen; e) Aktualisierung der normativen Verweisungen und Referenzen; f) redaktionelle Anpassungen.
Zuständiges nationales Arbeitsgremium
NA 062-02-21 AA - Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie
