Norm [NEU]

DIN 50451-4
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 4: Bestimmung von 34 Elementen in hochreinem Wasser durch Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)

Titel (englisch)

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of trace elements in liquids - Part 4: Determination of 34 elements in ultra pure water by mass spectrometry with inductively coupled plasma (ICP-MS)

Einführungsbeitrag

Dieses Dokument legt ein Prüfverfahren zur Bestimmung der Massenanteile von 34 Elementen im extremen Spurenbereich in Reinstwasser fest, wobei als Bestimmungsverfahren die Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS) eingesetzt wird. Das Verfahren gilt für Elementspuren-Massenanteile von 10 ng/kg bis 1 000 ng/kg. Dieses Dokument wurde vom Arbeitsausschuss NA 062-02-21 AA "Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie" im DIN-Normenausschuss Materialprüfung (NMP) erarbeitet.

Änderungsvermerk

Gegenüber DIN 50451-4:2007-02 wurden folgende Änderungen vorgenommen: a) Abgrenzung von Direktmessung und Anreichungsverfahren insbesondere bei der Kurzbeschreibung des Messverfahrens (Abschnitt 5) und der Auswertung (Abschnitt 11); b) Präzisierung des Reinigungsverfahren in 7.2; c) Präzisierung des Messprozesses hinsichtlich Teilmenge und Blindwertkorrektur, siehe Abschnitt 10; d) Aktualisierung der Anforderung des Prüfberichts, entsprechend den vorgenommenen Änderungen; e) Aktualisierung der normativen Verweisungen und Referenzen; f) redaktionelle Anpassungen.

Zuständiges nationales Arbeitsgremium

NA 062-02-21 AA - Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie  

Ausgabe 2024-09
Originalsprache Deutsch
Preis ab 70,50 €
Inhaltsverzeichnis

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