Einführungsbeitrag

Dieses Dokument legt ein Verfahren fest, welches zur schnellen Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen an Siliciumsubstraten dient. Dieses Dokument ist für Ätzmischungen anwendbar, die bei Silicium eine weitgehend gleichmäßige Flächenabtragung bewirken. Dieses Dokument wurde vom Arbeitsausschuss NA 062-02-21 AA "Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie" im DIN-Normenausschuss Materialprüfung (NMP) erarbeitet.

Änderungsvermerk

Gegenüber DIN 50453-1:1990-10 wurden folgende Änderungen vorgenommen: a) Verschiebung einer normativen Verweisung in das Literaturverzeichnis; b) Abschnitt 1 "Anwendungsbereich" redaktionell überarbeitet; c) Abschnitt 5 "Einheiten" gestrichen; d) Abschnitt 5 "Geräte" (vorm. Abschnitt 6) überarbeitet; e) Abschnitt 6 "Silicum-Substrat" (vorm. Abschnitt 7) aktualisiert; f) 8.3 "Kristallorientierung" (vorm. Unterabschnitt 9.3), 8.5 "Spezifische Zusammensetzung der einzelnen Ätzmischung" (vorm. Unterabschnitt 9.5), 8.7 "Temperatur" (vorm. Unterabschnitt 9.7) und 8.8 "Massendifferenz" (vorm. Unterabschnitt 9.8) aktualisiert; g) Abschnitt 9 "Probenvorbereitung" (vorm. Abschnitt 10) aktualisiert und Zusammensetzung der Lösung zur Entfettung und Hydrophilierung von Ammoniumperoxodisulfat zu Wasserstoffperoxid geändert; h) Überarbeitung des Abschnitts 10 "Durchführung" (vorm. Abschnitt 11); i) Aktualisierung der Abschnitts 13 "Prüfbericht" (vorm. Abschnitt 14); j) redaktionelle Überarbeitung.

Zuständiges nationales Arbeitsgremium

NA 062-02-21 AA - Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie