Einführungsbeitrag

Dieses Dokument legt Verfahren zur Bestimmung der Elemente Ag, Al, As, Au, Ba, Be, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Ga, Ge, In, K, Li, Mg, Mn, Mo, Na, Nb, Ni, Pb, Pt, Rb, Sb, Sn, Sr, Ti, Tl, V, W, Zn und Zr in Ammoniumfluorid Lösung (NH₄F) und Ätzmischungen aus hochreiner Ammoniumfluorid Lösung mit Flusssäure im Spurenbereich fest, wobei als Bestimmungsmethode die Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP MS) eingesetzt wird.
Die Verfahren gelten für Elementspuren Massenanteile von 100 ng/kg bis 10 000 ng/kg, je nach Anreicherung der Analyten.
Das Verfahren ohne Probenanreicherung ist anwendbar für: Ag, Al, Ba, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Ga, Ge, In, K, Li, Mg, Mn, Mo, Ni, Pb, Sb, Sn, Sr, Ti, V und Zr. Für Na, Pt, Tl liegt nur ein Datensatz vor.
Das Verfahren mit Probenanreicherung ist anwendbar für: Ag, Al, Au, Ba, Be, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Ga, In, K, Li, Mg, Mn, Mo, Na, Nb, Ni, Pb, Pt, Rb, Sn, Sr, Ti, Tl, V, W, Zn und Zr. Für As liegt nur ein Datensatz vor.
Diese Norm kann auch für weitere Elemente angewendet werden, sofern die für diese Elemente ermittelten statistischen Verfahrenskenndaten den Anforderungen aus Abschnitt 12 entsprechen.
Dieses Dokument wurde vom Arbeitsausschuss NA 062-02-21 AA "Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie" im DIN-Normenausschuss Materialprüfung (NMP) erarbeitet.

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Zuständiges nationales Arbeitsgremium

NA 062-02-21 AA - Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie