Einführungsbeitrag

Dieses Dokument legt ein Verfahren zur Bestimmung von den für die Halbleitertechnologie wichtigen Elemente Al, As, Ba, Be, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Ga, Ge, Hf, In, K, Li, Mg, Mn, Mo, Ni, Nb, Pb, Sb, Sn, Sr, Ta, Ti, V, Zn und Zr in Salpetersäure im Spurenbereich fest, wobei als Bestimmungsmethode die Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma als Ionenquelle (ICP MS) eingesetzt wird.
Die beschriebenen Verfahren gelten für Metallspuren-Massenanteile von 100 ng/kg bis 10 000 ng/kg. Das Abdampfverfahren nach 5.3 ist auch auf andere verdampfbare Flüssigkeiten anwendbar sofern die Wiederfindungsraten der Analyte zwischen 70 % und 130 % liegen.
Diese Norm kann auch für weitere Elemente angewendet werden, sofern die für diese Elemente ermittelten statistischen Verfahrenskenndaten den Anforderungen aus Abschnitt 12 entsprechen.
Dieses Dokument wurde vom Arbeitsausschuss NA 062-02-21 AA "Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie" im DIN-Normenausschuss Materialprüfung (NMP) erarbeitet.

Änderungsvermerk

Gegenüber DIN 50451-3:2003-04 wurden folgende Änderungen vorgenommen: a) Titel entsprechend Teil 4 und Teil 6 dieser Normenreihe angepasst und aktualisiert; b) Messung nach Verdünnung als gleichwertig zugelassen eingeführt; c) Begriffe ergänzt; d) Bestimmung weiterer Elemente aufgenommen; e) Anhang A "Ergebnisse der Ringversuche" hinzugefügt; f) Inhalt redaktionell überarbeitet.

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Zuständiges nationales Arbeitsgremium

NA 062-02-21 AA - Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie