Norm
[AKTUELL]
NF C96-017-1
; NF EN 62374-1:2011-06-01
NF C96-017-1
; NF EN 62374-1:2011-06-01
Halbleiterbauelemente - Teil 1: Prüfung auf zeitabhängigen dielektrischen Durchbruch (TDDB) bei Isolationsschichten zwischen metallischen Leiterbahnen
Titel (englisch)
Semiconductor devices - Part 1: time-dependent dielectric breakdown (TDDB) test for inter-metal layers