Einführungsbeitrag

Diese Norm legt Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken mittels Bestimmung der Dicke von Fotolack-Schichten fest, die unter festgelegten Bedingungen hergestellt werden. Das Verfahren der Schichterzeugung gilt für Siliciumscheiben von 100 mm bis 200 mm Durchmesser. Die Anwendung auf andere Substrate oder Scheibendurchmesser ist nach vorheriger Prüfung im Einzelfall prinzipiell möglich.
Die Norm wurde vom Arbeitsausschuss NA 062-02-21 AA "Prüfung von Prozesschemikalien für die Halbleitertechnologie" im NMP erstellt.

Änderungsvermerk

Gegenüber DIN 50455-1:1991-06 wurden folgende Änderungen vorgenommen: a) Titel leicht geändert; b) normative Verweisung aktualisiert; c) Wert für die Mindestauflösung des optischen Schichtdickenmessgerätes von 1 nm auf 0,4 nm reduziert; d) Abschnitt Geräte und Materialien ergänzt; e) Messstellenplan (Bild 1) berichtigt und dementsprechend Mindestanzahl der Einzelmesswerte von 27 auf 24 reduziert; f) Kriterium für Wiederholungsprüfung (siehe Abschnitt Auswertung) geändert; g) Inhalt redaktionell überarbeitet.

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Zuständiges nationales Arbeitsgremium

NA 062-02-21 AA - Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie