DIN-Normenausschuss Materialprüfung (NMP)
DIN 50451-3
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 3: Aluminium (Al), Cobalt (Co), Kupfer (Cu), Natrium (Na), Nickel (Ni) und Zink (Zn) in Salpetersäure mittels ICP-MS
Testing of materials for semiconductor technology - Determination of traces of elements in liquids - Part 3: Aluminium (Al), cobalt (Co), copper (Cu), sodium (Na), nickel (Ni) and zinc (Zn) in nitric acid by ICP-MS
Änderungsvermerk
a) Anwendungsbereich von 20 ng/g" auf 50 ng/g" erweitert. b) Abschnitte "Normative Verweisungen" und "Begriffe" zusätzlich aufgenommen; c) Anwendungsbereich von 20 ng/g" auf 50 ng/g" erweitert; d) Abschnitte "Normative Verweisungen" und "Begriffe" zusätzlich aufgenommen; e) Indiumnitrat als möglicher interner Standard gestrichen; f) Reinigungsverfahren für Gefäße und Pipettenspitzen erweitert und präzisiert; g) Im Abschnitt "Probenahme" Blindwert und Nachweisgrenze durch Bestimmungsgrenze als analytisches Kriterium ersetzt; h) Herstellung von Leerwertlösungen zusätzlich aufgenommen und Berechnungsgrundlagen spezifiziert; i) Abschnitt "Auswertung" umbenannt in "Berechnung und Angabe der Ergebnisse" und ergänzt um die Berechnung des Anreicherungsfaktors; j) Angaben im Abschnitt "Prüfbericht" den getroffenen Festlegungen angepasst; k) Inhalt redaktionell überarbeitet.
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Zuständiges nationales Arbeitsgremium
NA 062-02-21 AA - Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie
