DIN-Normenausschuss Materialprüfung (NMP)
NA 062-08-16 AA
Chemische Oberflächenanalyse und Rastersondenmikroskopie
Der NA 062-08-16 AA „Chemische Oberflächenanalyse und Rastersondenmikroskopie“ entwickelt Normen für Prüfverfahren zur chemischen Oberflächenanalyse und zur Rastersondenmikroskopie sowie der zugehörigen Terminologie. Er ist allein verantwortlich für die Erarbeitung der entsprechenden nationalen Normen und agiert als nationales Spiegelgremium zu ISO/TC 201 “Surface Chemical Analysis“ und seinen Unterkomitees.
Als solches verpflichtet er sich der Standardisierung in dem Bereich der Analytik, in dem Elektronen, Ionen, neutrale Atome, Moleküle oder Photonen auf die Oberfläche eines Probenmaterials treffen und von dieser gestreute oder emittierte Elektronen, Ionen, neutrale Atome, Moleküle oder Photonen detektiert werden. Die im NA 062-08-16 AA behandelten Verfahren verfolgen das Ziel der chemischen Analyse innerhalb einer Oberflächenregion, deren maximale Tiefe durch die Informationstiefe der Methode bestimmt wird, sowie die Ermittlung der chemischen Zusammensetzung als Funktion der Tiefe mittels derselben oberflächenempfindlichen Methoden durch Entfernung von Oberflächenlagen.
Die eingesetzten Techniken entstammen den Bereichen der Röntgenfluoreszenz, Röntgenabsorption, Röntgenemission, Röntgenreflektometrie, Röntgenstreuung und Röntgenbeugung, der optischen Spektroskopie, der Elektronenspektroskopie, Elektronenmikroskopie und Elektronenbeugung, der Ionenspektroskopie und Ionenbeugung, sowie der Rastersondenmikroskopie und Rastersondenspektroskopie.
Anwendungen finden diese spektroskopischen, mikroskopischen und spektromikroskopischen Techniken in einem Druckbereich beginnend bei Ultrahochvakuum (UHV) über atmosphärische Drücke bis zu Überduckbedingungen an Oberflächen von Feststoffen, Flüssigkeiten und Gasen und deren Grenzflächen. Die der Analyse zugeführten Materialklassen decken neben den klassischen Materialien die sogenannten „Advanced Materials“, biologische Materialien und Nanomaterialien, sowie daraus teilweise oder vollständig prozessierte Muster oder Bauteile ab.
