DIN-Normenausschuss Sicherheitstechnische Grundsätze (NASG)
DIN EN 17199-4
Exposition am Arbeitsplatz - Messung des Staubungsverhaltens von Schüttgütern, die Nanoobjekte oder Submikrometerpartikel enthalten oder freisetzen - Teil 4: Verfahren mit kleiner rotierender Trommel; Deutsche und Englische Fassung prEN 17199-4:2018
Workplace exposure - Measurement of dustiness of bulk materials that contain or release nano-objects or submicrometer particles - Part 4: Small rotating drum method; German and English version prEN 17199-4:2018
Einführungsbeitrag
Es wird die Methodologie festgelegt, um das Staubungsverhalten von Schüttgütern zu messen und zu charakterisieren, die Nanoobjekte oder Submikrometerpartikel enthalten oder freisetzen. In dem vorliegenden Teil der Normenreihe wird zu diesem Zweck das Verfahren mit kleiner rotierender Trommel festgelegt. Darüber hinaus werden die Auswahl der Instrumente und Geräte sowie die Verfahren für die Berechnung und Darstellung der Ergebnisse festgelegt. Zudem werden Leitlinien für die Auswertung und Berichterstattung der Daten gegeben. Die Erstellung des vorliegenden Norm-Entwurfs erfolgte im Rahmen des an CEN, CENELEC und ETSI erteilten Normungsauftrags M/461 für Normungsaktivitäten hinsichtlich Nanotechnologie und Nanomaterialien. Die Mitarbeit von DIN in der zuständigen Arbeitsgruppe des Technischen Komitees CEN/TC 137 wird über den Arbeitskreis NA 095-03-01-01 AK "Staub" des Arbeitsausschusses "Messstrategien und Anforderungen an Messverfahren" (NA 095-03-01 AA) im DIN-Normenausschuss Sicherheitstechnische Grundsätze (NASG) wahrgenommen.