DIN-Normenausschuss Feinmechanik und Optik (NAFuO)
DIN ISO 10110-5
Optik und Photonik - Erstellung von Zeichnungen für optische Elemente und Systeme - Teil 5: Oberflächenformtoleranzen (ISO 10110-5:2015)
Optics and photonics - Preparation of drawings for optical elements and systems - Part 5: Surface form tolerances (ISO 10110-5:2015)
Einführungsbeitrag
DIN ISO 10110 legt die Darstellung der konstruktiven und der funktionellen Anforderungen an optische Elemente und Systeme in technischen Zeichnungen für Fertigung und Prüfung fest. Dieser Teil von DIN ISO 10110 legt die Regeln für die Angabe von Oberflächenformtoleranzen fest. Er gilt sowohl für sphärische als auch für asphärische Flächen. Dieser Teil von ISO 10110 bezieht sich auf die Formabweichungen einer optischen Oberfläche und ermöglicht die Festlegung von Toleranzen für bestimmte Arten von Oberflächenformabweichungen ausgedrückt in Nanometer. Es ist allgemein üblich, die Oberflächenformabweichung interferometrisch als die Wellenfrontdeformation zu messen, die bei einfacher Reflexion einer Prüfwellenfront an der optischen Oberfläche bei senkrechtem Einfall entsteht. Daher ist es möglich, die interferometrische Auswertung einheitlich darzustellen, so dass sie für beide Anwendungen genutzt werden kann, das heißt die Oberflächenformabweichung und die Wellenfrontdeformation. Da die Auswertung der meisten Messungen softwarebasiert ist, sind die Abweichungen in Nanometern angegeben. Jedoch wird bei interferometrischen Messungen die Einheit Interferenzstreifen verwendet. Ein Interferenzstreifen entspricht einer Oberflächenformabweichung, die eine Deformation der reflektierten Wellenfront von einer Wellenlänge erzeugt. Ein in Nanometer angegebener Wert ist ein Indiz für die tatsächliche Höhenabweichung der Oberfläche (und nicht die der reflektierenden Wellenfront). Die zu prüfende Fläche zusammen mit der Probeglasoberfläche stellt zum Beispiel solch ein Interferometer dar. Die Oberflächenformabweichung wird durch die Wellenfrontabweichung dargestellt, die sich aus der Differenz der an der zu prüfenden Fläche reflektierten Wellenfront und der an der Probeglasoberfläche reflektierten Wellenfront ergibt.
Änderungsvermerk
Gegenüber DIN ISO 10110-5:2008-12 wurden folgende Änderungen vorgenommen: a) Nanometer wurde anstelle der Interferenzstreifen als Vorzugseinheit zur Spezifizierung von Toleranzen für bestimmte Arten von Oberflächenformabweichungen eingeführt; b) Erweiterung des Anwendungsbereiches, so dass die Norm nun auch Oberflächen höherer Ordnungen, wie Asphären, nicht-kreisförmig zylindrische Flächen und allgemeine Flächen beinhaltet; c) eine Spezifikation der Abweichungen in Tabellenform wurde ergänzt; d) eine Definition von Pfeilhöhenabweichung wurde ergänzt; e) die Name der Größe A wurde in Power-Abweichung geändert, was der Änderung in ISO 14999-4 entspricht. Für weitere Details, siehe 5.2.3, Anmerkung 3; f) ein informativer Anhang B wurde ergänzt, welcher einen Vergleich von ISO 10110-5 und 14999-4 hinsichtlich sich entsprechender Nomenklatur, Funktionen und Werte enthält.
