NA 022

DKE Deutsche Kommission Elektrotechnik Elektronik Informationstechnik in DIN und VDE

Projekt

Halbleiterbauelemente Leistungsbewertung von Halbleiterbauelementen und -anlagen - Teil 1: Verfahren zur Bewertung der Durchlässigkeit von EUV-Pellikeln

Kurzreferat

Dieser Teil der IEC 63567-1 ED1 schlägt ein Verfahren zur Messung der Durchlässigkeit von extrem ultravioletten (EUV)-Pellicle, das für die Extrem-Ultraviolett-Lithographie (EUVL) verwendet wird, und enthält Richtlinien für die Bedingungen des Transmissionsmessgeräts für EUV mit einer kurzen Wellenlänge und Methoden zur Berechnung der EUV-Durchlässigkeit. Der Anwendungsbereich dieses Dokuments gilt für alle Arten von Membranen, die auf der Vorderseite einer Reflexionsmaske (oder des reflektierenden Retikels) angebracht sind, die bei EUVL verwendet werden, um die Reflexionsmaske physisch vor Verunreinigungspartikeln zu schützen, die während der EUV-Belichtung im Inneren der Kammer entstehen.

Beginn

2024-07-12

Geplante Dokumentnummer

DIN EN IEC 63567-1

Projektnummer

02232442

Zuständiges nationales Arbeitsgremium

DKE/K 631 - Halbleiterbauelemente  

Ihr Kontakt

Elena Rongen

Merianstr. 28
63069 Offenbach am Main

Tel.: +49 69 6308-429

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