NA 027
DIN-Normenausschuss Feinmechanik und Optik (NAFuO)
DIN ISO 10110-1 [AKTUELL] zitiert folgende Dokumente:
Dokumentnummer | Ausgabe | Titel |
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DIN ISO 10110-11 | 2016-12 | Optik und Photonik - Erstellung von Zeichnungen für optische Elemente und Systeme - Teil 11: Allgemeintoleranzen für Werte ohne Toleranzangaben (ISO 10110-11:2016) Mehr |
DIN ISO 10110-14 | 2019-09 | Optik und Photonik - Erstellung von Zeichnungen für optische Elemente und Systeme - Teil 14: Toleranzen für Wellenfrontdeformationen (ISO 10110-14:2018) Mehr |
DIN ISO 10110-17 | 2004-12 | Optik und Photonik - Erstellung von Zeichnungen für optische Elemente und Systeme - Teil 17: Zerstörschwelle für Laserstrahlung (ISO 10110-17:2004) Mehr |
DIN ISO 10110-18 | 2019-09 | Optik und Photonik - Erstellung von Zeichnungen für optische Elemente und Systeme - Teil 18: Spannungsdoppelbrechung, Blasen und Einschlüsse, Homogenität, und Schlieren (ISO 10110-18:2018) Mehr |
DIN ISO 10110-19 | 2016-04 | Optik und Photonik - Erstellung von Zeichnungen für optische Elemente und Systeme - Teil 19: Allgemeine Beschreibung von Oberflächen und Komponenten (ISO 10110-19:2015) Mehr |
DIN ISO 10110-5 | 2016-04 | Optik und Photonik - Erstellung von Zeichnungen für optische Elemente und Systeme - Teil 5: Oberflächenformtoleranzen (ISO 10110-5:2015) Mehr |
DIN ISO 10110-6 | 2016-06 | Optik und Photonik - Erstellung von Zeichnungen für optische Elemente und Systeme - Teil 6: Zentriertoleranzen (ISO 10110-6:2015) Mehr |
DIN ISO 10110-7 | 2018-05 | Optik und Photonik - Erstellung von Zeichnungen für optische Elemente und Systeme - Teil 7: Oberflächenunvollkommenheiten (ISO 10110-7:2017) Mehr |
DIN ISO 10110-9 | 2016-12 | Optik und Photonik - Erstellung von Zeichnungen für optische Elemente und Systeme - Teil 9: Oberflächenbehandlungen und Beschichtungen (ISO 10110-9:2016) Mehr |
IEC 60758 | 2016-05 | Quarzkristall - Festlegungen und Leitfaden für die Anwendung Mehr |